Жертвенное травление кремния в парах XeF2 Xactix® XeF2 Изотропное травление кремния с применения дифторида ксенона – это идеальное решение для высвобождения МЭМС устройств. XeF2 имеет высокую селективность травления кремния по отношению к большинству стандартных полупроводниковых материалов, включая фоторезист, SiO2, Si3N4 и алюминий. Благодаря тому, что травитель находится в паровой фазе, удаются избежать множество типичных проблем, характерных для … Читать далее Xactix® XeF2 Release Etch Systems